常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備的制作方法

專利名稱：常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種新型的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，尤其是，涉及一種由上下兩個(gè)殼體構(gòu)成的多個(gè)圓弧形低溫等離子體的放電間隙，使紡織面料由轉(zhuǎn)動(dòng)軸帶動(dòng)經(jīng)過放電間隙由殼體一側(cè)口進(jìn)入，另一側(cè)口傳出的設(shè)備。
背景技術(shù)：
常壓冷等離子體技術(shù)是在近年才迅速發(fā)展起來的、并已得到廣泛應(yīng)用的新技術(shù)，它可應(yīng)用于(1)物體表面改性(例如改變物體表面的親水性和表面張力)。(2)表面清洗(例如清洗生化污染、表面有機(jī)污染)。(3)有毒氣體和有害液體的治理。(4)產(chǎn)生臭氧滅菌等。
傳統(tǒng)的真空室等離子體對紡織面料的表面改性處理，由于受到真空室操作空間和設(shè)備成本的限制，處理成本較大，設(shè)備昂貴，若利用常壓冷等離子體技術(shù)對紡織面料的表面進(jìn)行改性處理不但可以實(shí)現(xiàn)工業(yè)連續(xù)性生產(chǎn)，而且可以大大減少設(shè)備成本。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種常壓低溫等離子體紡織面料改性設(shè)備，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。
為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是提供一種常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，包括上殼體部分、下殼體部分、汽缸部分、電源系統(tǒng)、供氣源和殼體排氣罩，其上殼體容腔內(nèi)設(shè)有多個(gè)金屬瓦片電極、支架、傳動(dòng)軸、蓋板及絕緣材料，下殼體容腔內(nèi)上部設(shè)有包覆有絕緣材料的多個(gè)圓筒地電極、下蓋板、傳動(dòng)軸，下部設(shè)有電源系統(tǒng)、供氣源和進(jìn)氣導(dǎo)管，下殼體固接在支架上；在下殼體內(nèi)底面的四個(gè)角上固接四個(gè)汽缸，四個(gè)汽缸的滑動(dòng)臂上端固接在上殼體的四個(gè)角上，通過控制汽缸觸動(dòng)開關(guān)，使上殼體上下移動(dòng)，當(dāng)上殼體落在下殼體支架上時(shí)，在兩個(gè)殼體內(nèi)的電極之間形成圓弧形通道的等離子體放電間隙及進(jìn)出口間隙，紡織面料由轉(zhuǎn)動(dòng)軸帶動(dòng)經(jīng)過放電間隙由殼體一側(cè)口進(jìn)入，另一相對的側(cè)口傳出。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述上殼體部分的多個(gè)金屬瓦片電極與下殼體部分包覆有絕緣材料的多個(gè)金屬圓筒地電極構(gòu)成圓弧形的放電間隙，該圓弧形放電間隙的可調(diào)范圍是1-5毫米，金屬瓦片電極的弧半徑取值比金屬圓筒地電極的外半徑大5毫米以上。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述上殼體部分的多個(gè)金屬瓦片電極與上殼體之間由絕緣材料絕緣，金屬瓦片電極內(nèi)側(cè)弧面上，設(shè)有尖齒形狀凸起。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述包覆絕緣材料筒的金屬圓筒地電極，其兩頭設(shè)有軸承，軸承固定在下殼體兩側(cè)的支架上。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述上、下殼體，在上、下殼體開口接觸面的四周框邊內(nèi)側(cè)，設(shè)有彈性密封條，在上、下殼體的外側(cè)四周和上下設(shè)有板面密封；支架下方四角設(shè)有滾輪。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述等離子體放電，直接在空氣中進(jìn)行，或根據(jù)需要通過供氣源提供工作氣體；進(jìn)氣導(dǎo)管與下殼體中部的進(jìn)氣孔連接，供氣源通過進(jìn)氣導(dǎo)管向工作面提供所需氣體。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述一側(cè)口和另一相對的側(cè)口，為兩個(gè)彈性口，是在兩側(cè)口內(nèi)側(cè)設(shè)置彈性材料，用彈性材料擠壓在被處理的紡織面料上。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述多個(gè)金屬瓦片電極與電源的高壓輸出端連接，金屬圓筒地電極與支架連接并接地，設(shè)備電源所采用的工作頻率選擇范圍是1千赫茲至100千赫茲。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述上殼體的頂面兩側(cè)設(shè)有排氣罩，由于放電所產(chǎn)生的廢氣，由排氣罩的排氣孔排出。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述上、下殼體，金屬瓦片電極，圓筒地電極，為金屬材料制作，絕緣材料，為尼龍、還氧樹脂、玻璃管或硅膠管的其中之一。
所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其所述金屬材料，為不銹鋼材料、鋁材料或鐵材料。
本實(shí)用新型是一種新型的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其優(yōu)點(diǎn)是1、多個(gè)常壓低溫等離子體放電通道的建立，可以實(shí)現(xiàn)對寬幅布料進(jìn)行連續(xù)的等離子體處理。2、通過多個(gè)等離子體放電的處理，可以使面料的得到均勻的改性處理。3、上殼體通過汽缸升起，有利于面料容易地放在電極之間得到處理。4、尖齒金屬瓦片電極內(nèi)表面，使放電擊穿電壓降低。
本實(shí)用新型是利用一個(gè)傳動(dòng)系統(tǒng)和多個(gè)大氣壓低溫冷等離子體放電通道，對布料處理的設(shè)備，是利用等離子體與表面相互作用的干化學(xué)原理，并且不會(huì)帶來環(huán)境污染。


圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例主體的側(cè)剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例主體汽缸升起后的側(cè)剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例主體的正剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例1電極結(jié)構(gòu)剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例2電極結(jié)構(gòu)剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例出口結(jié)構(gòu)剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面參照附圖，結(jié)合具體的實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的描述。
首先，參閱圖1、圖2、圖3、圖4和圖5，圖1中所示為本實(shí)用新型的實(shí)施例主體的側(cè)剖視結(jié)構(gòu)示意圖，上殼體101由多個(gè)金屬瓦片電極104、支架102、傳動(dòng)軸105、蓋板及絕緣材料103構(gòu)成；下殼體201由支架209、包覆有絕緣材料206的多個(gè)圓筒地電極204、傳動(dòng)軸202等構(gòu)成，在上殼體101的四個(gè)角上連接四個(gè)汽缸303，通過觸動(dòng)開關(guān)控制汽缸303可以使上殼體101能上下移動(dòng)，當(dāng)上殼體101落在下殼體支架209上時(shí)，在兩個(gè)殼體的電極之間形成圓弧形通道的等離子體放電間隙，如圖1中401所指的圓部分A的局部放大圖4和圖5所示，金屬瓦片電極104固定在絕緣材料腳架103上，與包覆有絕緣銅筒206的金屬圓筒地電極204構(gòu)成圓弧形的放電間隙，圓弧形放間隙的可調(diào)范圍是1-5毫米，金屬瓦片電極104的弧心與圓筒地電極204同心，金屬瓦片電極104的弧半徑取值比金屬圓筒的外半徑大5毫米以上。金屬瓦片電極104通過導(dǎo)線與電源的高壓端301連接，金屬瓦片電極104的內(nèi)側(cè)可以采用如圖5中的尖齒108結(jié)構(gòu)，圓筒地電極204通過軸承205安裝在下殼體支架209上，圓筒地電極204與殼體連接并與電源的地電極連接。
在上殼體101的兩側(cè)設(shè)有排氣孔106和107，以排出部分臭氧氣體。
參見圖3，在下殼體201的板面上設(shè)有進(jìn)氣孔203，該進(jìn)氣孔203通過進(jìn)氣導(dǎo)管與氣源302連接，該供氣源可以提供任何需要的氣體。
參見圖6為圖1進(jìn)口處B的局部放大圖，在殼體進(jìn)出口，紡織面料300在通過凸面軸207時(shí)，由彈性材料200擠壓在紡織面料300上，以實(shí)現(xiàn)進(jìn)出口的動(dòng)密封。紡織面料300由轉(zhuǎn)動(dòng)軸202帶動(dòng)經(jīng)過放電間隙401由殼體一側(cè)口進(jìn)入，另一側(cè)口傳出。
上下殼體101、201、金屬瓦片電極104、圓筒地電極204可選用不銹鋼材料、鋁材料、鐵材料等金屬材料，絕緣材料103可選用尼龍、還氧樹脂等材料，包覆圓筒地電極204的絕緣材料206可選用玻璃管或硅膠管等。
上面參考附圖結(jié)合具體的實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了描述，然而，需要說明的是，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下，可以對上述實(shí)施例做出許多改變和修改，這些改變和修改都落在本實(shí)用新型的權(quán)利要求限定的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，包括上殼體部分、下殼體部分、汽缸部分、電源系統(tǒng)、供氣源和殼體排氣罩，其特征在于上殼體容腔內(nèi)設(shè)有多個(gè)金屬瓦片電極、支架、傳動(dòng)軸、蓋板及絕緣材料，下殼體容腔內(nèi)上部設(shè)有包覆有絕緣材料的多個(gè)圓筒地電極、下蓋板、傳動(dòng)軸，下部設(shè)有電源系統(tǒng)、供氣源和進(jìn)氣導(dǎo)管，下殼體固接在支架上；在下殼體內(nèi)底面的四個(gè)角上固接四個(gè)汽缸，四個(gè)汽缸的滑動(dòng)臂上端固接在上殼體的四個(gè)角上，通過控制汽缸觸動(dòng)開關(guān)，使上殼體上下移動(dòng)，當(dāng)上殼體落在下殼體支架上時(shí)，在兩個(gè)殼體內(nèi)的電極之間形成圓弧形通道的等離子體放電間隙及進(jìn)出口間隙，紡織面料由轉(zhuǎn)動(dòng)軸帶動(dòng)經(jīng)過放電間隙由殼體一側(cè)口進(jìn)入，另一相對的側(cè)口傳出。
2.如權(quán)利要求1所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述上殼體部分的多個(gè)金屬瓦片電極與下殼體部分包覆有絕緣材料的多個(gè)金屬圓筒地電極構(gòu)成圓弧形的放電間隙，該圓弧形放電間隙的可調(diào)范圍是1-5毫米，金屬瓦片電極的弧半徑取值比金屬圓筒地電極的外半徑大5毫米以上。
3.如權(quán)利要求1所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述上殼體部分的多個(gè)金屬瓦片電極與上殼體之間由絕緣材料絕緣，金屬瓦片電極內(nèi)側(cè)弧面上，設(shè)有尖齒形狀凸起。
4.如權(quán)利要求1所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述包覆絕緣材料筒的金屬圓筒地電極，其兩頭設(shè)有軸承，軸承固定在下殼體兩側(cè)的支架上。
5.如權(quán)利要求1所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述上、下殼體，在上、下殼體開口接觸面的四周框邊內(nèi)側(cè)，設(shè)有彈性密封條，在上、下殼體的外側(cè)四周和上下設(shè)有板面密封；支架下方四角設(shè)有滾輪。
6.如權(quán)利要求1所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述等離子體放電，直接在空氣中進(jìn)行，或根據(jù)需要通過供氣源提供工作氣體；進(jìn)氣導(dǎo)管與下殼體中部的進(jìn)氣孔連接，供氣源通過進(jìn)氣導(dǎo)管向工作面提供所需氣體。
7.如權(quán)利要求1所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述一側(cè)口和另一相對的側(cè)口，為兩個(gè)彈性口，是在兩側(cè)口內(nèi)側(cè)設(shè)置彈性材料，用彈性材料擠壓在被處理的紡織面料上。
8.如權(quán)利要求1或4所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述多個(gè)金屬瓦片電極與電源的高壓輸出端連接，金屬圓筒地電極與支架連接并接地，設(shè)備電源所采用的工作頻率選擇范圍是1千赫茲至100千赫茲。
9.如權(quán)利要求1所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述上殼體的頂面兩側(cè)設(shè)有排氣罩，由于放電所產(chǎn)生的廢氣，由排氣罩的排氣孔排出。
10.如權(quán)利要求1、2、3或4所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述上、下殼體，金屬瓦片電極，圓筒地電極，為金屬材料制作，絕緣材料，為尼龍、還氧樹脂、玻璃管或硅膠管的其中之一。
11.如權(quán)利要求10所述的常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，其特征在于所述金屬材料，為不銹鋼材料、鋁材料或鐵材料。
專利摘要本實(shí)用新型是一種常壓低溫等離子體紡織面料處理設(shè)備，包括上殼體部分、下殼體部分、四個(gè)汽缸、電源系統(tǒng)、供氣源和殼體排氣罩，其上殼體由金屬瓦片電極、支架、傳動(dòng)軸、蓋板及絕緣材料構(gòu)成，下殼體由支架、地電極、下蓋板、傳動(dòng)軸等構(gòu)成，在上殼體的四個(gè)角上連接四個(gè)汽缸，由汽缸控制可以使上殼體能上下移動(dòng)，在上殼體落在下殼體支架上時(shí)，在兩個(gè)殼體的電極之間形成圓弧形通道的等離子體放電間隙及進(jìn)出口間隙，紡織面料經(jīng)過轉(zhuǎn)動(dòng)軸和放電間隙由殼體一側(cè)入口進(jìn)入，另一側(cè)出口傳出，在下殼體內(nèi)安裝電源系統(tǒng)、供氣源和氣管。本實(shí)用新型設(shè)備具有面料安裝方便、放電區(qū)間密封好、放電通道長的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號D06M10/00GK2895498SQ20052013656
公開日2007年5月2日 申請日期2005年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月28日
發(fā)明者王守國 申請人:中國科學(xué)院光電研究院