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        一種鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構的制作方法

        文檔序號:39741144發布日期:2024-10-25 13:11閱讀:136來源:國知局

        本技術屬于金屬電鍍領域,具體涉及一種鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構。


        背景技術:

        1、電鍍白槍色錫鎳合金用于制備一種光亮錫鎳合金鍍層,鍍層呈烏亮的白色,合金含量均勻一致,耐蝕性極高,是一種理想的防腐鍍層和功能性鍍層,通常用于代替六價鉻裝飾性鍍鉻層。

        2、珍珠鎳鍍層柔和雅致,在儀器儀表和五金制品等行業已經獲得了廣泛的應用。但珍珠鎳鍍層抗變色能力差,耐蝕性也不夠高。

        3、白槍色珍珠錫鎳合金鍍層比珍珠鎳鍍層具備更優雅的外觀,且具有優異的耐蝕性,但目前尚未得到開發與應用。

        4、按傳統工藝,鋼鐵件以氰化鍍銅工藝制備預鍍銅層,然后進行焦磷酸鹽鍍銅、鍍酸銅、鍍光亮鎳等。然而,用現行的二價銅無氰鍍銅工藝代替氰化鍍銅還不成熟,鍍層結合力問題仍有待進行更深入的研究[1]。

        5、聚合硫氰酸鹽鍍銅工藝是最新開發的一種無氰鍍銅工藝,采用聚合硫氰酸亞銅作主鹽,以聚合硫氰酸鈉作配位劑,其工藝特征及性能接近傳統的氰化鍍銅,目前還處在開發試用階段。

        6、參考文獻:[1]、秦足足,李建三,徐金來,國內外無氰鍍銅工藝研究進展[j],電鍍與涂飾,2015,34(3):149-152。


        技術實現思路

        1、為了解決鋼鐵件按傳統方法制備氰化預鍍銅層的高污染問題,本實用新型提供了一種鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構。為了達到上述目的本實用新型采用如下技術方案:

        2、一種鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構,其特征在于:包括鋼鐵基體,和在所述在鋼鐵基體上依次制備的聚合硫氰酸鹽預鍍銅層、酸銅鍍層、珍珠鎳鍍層、及白槍色珍珠錫鎳合金鍍層;

        3、所述聚合硫氰酸鹽預鍍銅層的厚度為1~4μm。

        4、優選的,所述酸銅鍍層的厚度為15~25μm。

        5、優選的,所述珍珠鎳鍍層的厚度為3~5μm。

        6、優選的,所述白槍色珍珠錫鎳合金鍍層的厚度為0.2~0.3μm。

        7、鋼鐵件表面進行聚合硫氰酸鹽預鍍銅,鍍層與鋼鐵基體之間能形成良好的結合力。鍍酸銅用于增加鍍層的厚度和光亮度,達到防腐和裝飾性效果。在鍍銅層上鍍珍珠鎳,珍珠鎳鍍層電極電位較負,對鍍銅層而言屬于陽極性鍍層,這種鍍層結構能夠較好地阻隔腐蝕介質向基體方向的侵蝕。在珍珠鎳鍍層上鍍白槍色珍珠錫鎳合金,所述制備鍍層的電極電位正于珍珠鎳鍍層。這種鍍層結構遭受腐蝕時,腐蝕介質首先腐蝕珍珠鎳鍍層,并沿橫向方向進行腐蝕,但白槍色珍珠錫鎳合金鍍層的耐蝕性很高,能有效減緩珍珠鎳鍍層的腐蝕速度。

        8、與現有技術相比,本實用新型具有以下有益效果:

        9、1、本實用新型公開的一種鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構,采用聚合硫氰酸鹽鍍銅工藝代替氰化鍍銅制備預鍍銅層,克服了使用氰化物帶來的高污染和高風險問題;

        10、2、本實用新型公開的鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構,填補了國內市場鍍白槍色珍珠錫鎳合金的空白。



        技術特征:

        1.一種鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構,其特征在于:包括鋼鐵基體,和在所述鋼鐵基體上依次制備的聚合硫氰酸鹽預鍍銅層、酸銅鍍層、珍珠鎳鍍層、及白槍色珍珠錫鎳合金鍍層;

        2.如權利要求1所述的鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構,其特征在于:所述酸銅鍍層的厚度為15~25μm。

        3.如權利要求1所述的鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構,其特征在于:所述珍珠鎳鍍層的厚度為3~5μm。

        4.如權利要求1所述的鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構,其特征在于:所述白槍色珍珠錫鎳合金鍍層的厚度為0.2~0.3μm。


        技術總結
        本技術公開了一種鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構,包括鋼鐵基體、和在所述鋼鐵基體上從內到外依次制備的聚合硫氰酸鹽預鍍銅層、酸銅鍍層、珍珠鎳鍍層、及白槍色珍珠錫鎳合金鍍層。本技術公開的鍍白槍色珍珠錫鎳合金的鍍層結構,按照GB/T?5270?2005《金屬基體上的金屬覆蓋層電沉積和化學沉積層附著強度試驗方法評述》以熱震試驗法測定鍍層結合力,其結合力滿足標準要求;按照GB/T?10125?2021《人造氣氛腐蝕試驗鹽霧試驗》進行醋酸鹽霧試驗54h,鍍件表面無腐蝕物生成,所制備鍍層結構具有良好的耐蝕性。

        技術研發人員:陳媚,郭崇武,黎小陽,湯浩云
        受保護的技術使用者:寧波優優希新材料科技有限公司
        技術研發日:20231211
        技術公布日:2024/10/24
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