本技術(shù)涉及氣溶膠產(chǎn)生，特別涉及一種加熱組件及氣溶膠生成裝置。
背景技術(shù)：
1、氣溶膠生成裝置是一種能夠使氣溶膠生成制品在受熱而不燃燒時產(chǎn)生氣溶膠供用戶抽吸的裝置，該裝置包括加熱針，加熱針能夠插入氣溶膠生成制品內(nèi)部的基質(zhì)中，并能夠在氣溶膠生成制品的內(nèi)部加熱基質(zhì)，從而使基質(zhì)產(chǎn)生煙氣。然而，加熱針中用于提供熱量的是加熱軌跡，加熱軌跡大致為具有一個或者多個彎道的窄條狀，從而使得相鄰的軌跡之間具有未被加熱層占據(jù)的空白區(qū)域，空白區(qū)域與加熱軌跡之間的溫場可高達(dá)30℃以上，從而導(dǎo)致加熱針的表面的溫場分布不均勻，使得加熱針不能夠均勻地加熱基質(zhì)，造成煙氣中雜氣多，影響用戶的抽吸體驗。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本技術(shù)的目的是提供一種加熱組件及氣溶膠生成裝置，能夠使加熱組件的外表面具有較為均勻地溫場。
2、本技術(shù)至少一個實施例提供了一種加熱組件，所述加熱組件包括：
3、加熱部，用于在氣溶膠生成制品的內(nèi)部釋放熱量，來使所述氣溶膠生成制品產(chǎn)生氣溶膠；所述加熱部為繞卷成型的管狀結(jié)構(gòu)，所述加熱部包括一個或者多個面狀加熱層，其中至少一個所述面狀加熱層或者由其中多個所述面狀加熱層形成的加熱層組合被配置為向外周釋放熱量。
4、作為一個示例，所述加熱層組合能夠360°向外釋放熱量。
5、作為一個示例，所述加熱部被構(gòu)造成連續(xù)繞卷超過360°的管狀結(jié)構(gòu)。
6、作為一個示例，所述面狀加熱層包括第一加熱層，所述加熱部還包括第一電極層和第二電極層，所述第一加熱層的局部與所述第一電極層重疊，局部與所述第二電極層重疊，從而使得所述第一加熱層與所述第一電極層和所述第二電極層電連接；
7、其中，所述第一加熱層位于所述第一電極層和所述第二電極層之間的部分的連續(xù)繞卷角度大于或者等于360°。
8、作為一個示例，所述面狀加熱層還包括第二加熱層，所述第一加熱層和所述第二加熱層相互間隔且并聯(lián)地設(shè)置在所述第一電極和所述第二電極層之間。
9、作為一個示例，所述第一加熱層和所述第二加熱層在縱向和/或周向上的間隔小于或者等于1mm。
10、作為一個示例，所述加熱部包括基片，所述第一加熱層布置在所述基片上，所述基片連續(xù)繞卷的角度α滿足：α≥360°。
11、作為一個示例，所述基片的厚度d滿足：0.05mm≤d≤0.35mm，或者0.1mm≤d≤0.2mm；和/或
12、所述基片包括陶瓷流延片，或者所述基片包括氧化鋁、氧化鋯、zta、氮化鋁、氮化硅或者碳化硅。
13、作為一個示例，所述面狀加熱層包括第一加熱層，所述管狀結(jié)構(gòu)的外表面包括所述第一加熱層的局部。
14、作為一個示例，所述加熱部還包括第一電極層，所述第一電極層和所述第一加熱層布置在所述基片的同一表面上，且所述第一電極層與所述第一加熱層電連接；
15、所述管狀結(jié)構(gòu)的外表面包括所述第一電極層的至少局部。
16、作為一個示例，所述加熱部還包括第二電極層和第二導(dǎo)電填料，所述第二電極層與所述第一加熱層布置在所述基片的同一表面上，且所述第二電極層與所述第一加熱層電連接；其中，
17、所述基片上開設(shè)有多個第二通孔，多個所述第二通孔被配置為在所述加熱部繞卷成管狀結(jié)構(gòu)后相互對應(yīng)形成通道，所述第二導(dǎo)電填料填充在所述通道中，且所述第二導(dǎo)電填料的一端暴露在管狀結(jié)構(gòu)的外表面，另一端電連接所述第二電極層；或者
18、所述管狀結(jié)構(gòu)為中空結(jié)構(gòu)，所述基片上對應(yīng)所述第二電極層開設(shè)有至少一個第二通孔，所述第二導(dǎo)電填料填充在所述第二通孔中，且所述第二導(dǎo)電填料的一端暴露在管狀結(jié)構(gòu)的內(nèi)表面，另一端電連接所述第二電極層。
19、作為一個示例，所述面狀加熱層包括第一加熱層，所述第一加熱層隱藏在所述管狀結(jié)構(gòu)的內(nèi)部。
20、作為一個示例，所述加熱部還包括第一電極層和第二電極層，所述第一電極層、所述第二電極層和所述第一加熱層布置在所述基片的同一表面上，且所述第一電極層和所述第二電極層均與所述第一加熱層電連接；
21、所述基片上開設(shè)有第一通孔和多個第二通孔，多個所述第二通孔被配置為在所述加熱部繞卷成管狀結(jié)構(gòu)后相互對應(yīng)形成通道；
22、所述第一通孔中填充有第一導(dǎo)電填料，所述第一導(dǎo)電填料的一端暴露在管狀結(jié)構(gòu)的外表面，另一端電連接所述第一電極層；
23、所述通道中填充有第二導(dǎo)電填料，所述第二導(dǎo)電填料的一端暴露在管狀結(jié)構(gòu)的外表面，另一端電連接所述第二電極層。
24、作為一個示例，所述面狀加熱層采用印刷、噴涂、物理沉積、化學(xué)沉積、離子濺射或者粒子注入的方式布置在所述基片的表面或者表層。
25、作為一個示例，所述基片包括第一區(qū)段和第二區(qū)段，所述面狀加熱層均布置在所述第一區(qū)段上，且所述第一區(qū)段被配置為在所述加熱組件與所述氣溶膠生成制品聯(lián)合時，位于所述氣溶膠生成制品的內(nèi)部；
26、所述加熱組件還包括固定座，所述第二區(qū)段嵌入在所述固定座中，且所述面狀加熱層的遠(yuǎn)端與所述固定座相毗鄰。
27、作為一個示例，所述面狀加熱層為矩形，所述面狀加熱層在縱向上的長度和在周向上的長度，二者中的一者大于或者等于2mm，另一者大于或者等于5mm。
28、作為一個示例，所述加熱組件還包括導(dǎo)引部，所述導(dǎo)引部包括大致為錐形的端帽和與所述端帽的遠(yuǎn)端連接的桿部，所述加熱部的近端抵接所述端帽且所述管狀結(jié)構(gòu)環(huán)繞所述桿部設(shè)置；
29、所述桿部在縱向上的長度小于或者等于所述管狀結(jié)構(gòu)在縱向上的長度。
30、作為一個示例，所述加熱組件還包括發(fā)射增強層，所述發(fā)射增強層設(shè)置在所述加熱部的外表面上。
31、本技術(shù)至少一個實施例提供了一種加熱組件，所述加熱組件包括：
32、加熱部，其外表面上設(shè)置有導(dǎo)流通道；
33、所述加熱部用于在氣溶膠生成制品的內(nèi)部釋放熱量，來使所述氣溶膠生成制品產(chǎn)生氣溶膠，所述導(dǎo)流通道用于引導(dǎo)外界的空氣沿著所述加熱部的外表面流入所述氣溶膠生成制品的內(nèi)部，以降低所述氣溶膠生成制品的吸阻。
34、作為一個示例，所述加熱部的一端側(cè)邊為搭接邊，所述加熱部被構(gòu)造成連續(xù)繞卷超過360°的管狀結(jié)構(gòu)，且所述搭接邊位于所述管狀結(jié)構(gòu)的外側(cè)并與所述管狀結(jié)構(gòu)的外表面之間形成臺階，所述臺階界定所述導(dǎo)流通道的至少部分邊界。
35、作為一個示例，所述加熱部包括基片和保持在所述基片上的面狀加熱層，所述基片連續(xù)繞卷的角度α滿足：α≥360°，所述面狀加熱層包括第一加熱層，所述第一加熱層在周向上的長度，使得所述第一加熱層在所述管狀結(jié)構(gòu)中連續(xù)繞卷的角度β滿足：360°*0.8≤β≤360°*3，或者360°≤β≤360°*2。
36、本技術(shù)至少一個實施例提供了一種氣溶膠生成裝置，所述氣溶膠生成裝置包括電源組件和所述的加熱組件，所述電源組件用于為所述加熱組件釋放熱量提供能量。
37、以上實施例提供的加熱組件及氣溶膠生成裝置，加熱組件的加熱部包括一個或者多個面狀加熱層，面狀加熱層相對加熱軌跡具有更加均勻的溫場，從而能夠均勻加熱氣溶膠生成制品，能夠有效地減少雜氣，提升用戶的抽吸體驗。