技術簡介:
本專利針對離線鍍膜玻璃生產中輥道間氣體上下流動導致鍍膜氣流紊亂、膜層質量不穩定的問題,提出一種氣流隔斷裝置。通過波形板半圓弧面與輥道圓柱面同心圓配合,配合倒置梯形蓋磚的結構,形成封閉平面引導氣體水平流動,有效阻斷上下氣流交換,確保鍍膜氣體穩定流向排氣通道,提升膜層均勻性。
關鍵詞:輥道氣流隔斷,鍍膜質量,氣體流動控制
專利名稱:一種用于玻璃鍍膜的輥道氣流隔斷裝置的制作方法
技術領域:
本實用新型涉及玻璃鍍膜生產裝置,特別涉及用于玻璃鍍膜的輥道間氣體隔斷裝置。
背景技術:
在浮法玻璃生產線上利用CVD法生產鍍膜玻璃,即在線法,是目前常用的方法,但 該方法往往受制于浮法線連續生產等諸多因素,不能滿足靈活多變的產品要求。離線鍍膜 玻璃生產即離線法,能較好地解決在線法的不足,采用輥道輸送玻璃,但由于輥道之間有一 定間距,當玻璃基片不是連續輸送時,鍍膜氣體會在輥間上下流動,造成鍍膜氣流紊亂,嚴 重影響膜層的質量,只有有效隔斷輥間上下流動的氣體,才能建立穩定的氣流走向,滿足鍍 膜工藝要求。
實用新型內容本實用新型的目的是提供一種用于玻璃鍍膜的輥道氣流隔斷裝置,在不影響正常 鍍膜生產的條件下,能有效隔斷輥道上下空間,阻止輥間氣體上下流動,解決鍍膜氣流引導 的問題,從而生產出高質量的離線鍍膜玻璃。為了實現上述目的,本實用新型采用以下技術方案一種用于玻璃鍍膜的輥道氣流隔斷裝置,由相互平行的輥道和上部板組成,所述 的上部板設置進氣通道和出氣通道,在輥道下部設置波形板,在所述波形板上表面設置一 組半圓弧面,每個半圓弧面與對應輥道下部圓柱面呈同心圓配合,兩弧面間隙2至10毫米; 在每兩個相鄰輥道之間的上部,分別設置一個蓋磚,通過銷釘連接在波形板上,蓋磚上平面 比輥道上表面略低2至5毫米,蓋磚斷面呈倒置梯形,其兩側邊與輥道表面側面間隙配合。采用上述技術方案可有效隔絕輥道上下氣體的流通,使進氣通道流出的鍍膜氣體 只可在輥道和蓋磚組成的封閉平面上水平流向排氣通道,始終保持穩定的氣流走向,當玻 璃片在輥道上進入鍍膜段,該穩定氣流在熱玻璃片表面進行鍍膜,鍍膜產生的尾氣從排氣 通道排出。在上述技術方案的基礎上,可以有進一步方案輥道間波形板與上部板的覆蓋面積相對應;蓋磚與輥道間隙配合的表面,可以是 與輥道的同心圓,間隙2至10毫米,也可以是相切的直線,間隙2至10毫米;波形板和蓋磚 的材質是可以是石墨、熔融石英、剛玉、不銹鋼中任何一種。本實用新型裝置結構簡單,能有效隔斷輥道上下空間,阻止輥間氣體上下流動,解 決鍍膜氣流引導的問題,既保證了高溫下玻璃的下表面質量,又保證了膜層質量的穩定。
圖1是本實用新型的結構剖視圖。
具體實施方式一種用于玻璃鍍膜的輥道氣流隔斷裝置,由波形板1、蓋磚2、一組相互平行的輥 道3和上部板4組成。所述的上部板4上設置進氣通道5、出氣通道6,在輥道3下部設置 波形板1,在所述波形板1上表面設置一組半圓弧面,每個半圓弧面與輥道3下部圓柱面同 心圓配合,兩弧面間隙2至10毫米;在每兩個相鄰輥道3之間上部,分別設置一個蓋磚2, 通過銷釘連接在波形板1上,蓋磚2上平面比輥道3上表面略低2至5毫米,蓋磚2斷面呈 倒置梯形,其兩側邊與輥道3表面側面間隙配合。蓋磚2與輥道3間隙配合的表面,可以是 與輥道3的同心圓,間隙2至10毫米,也可以是相切的直線,間隙2至10毫米。輥道3間 波形板1與上部板4的覆蓋面積相對應。波形板和蓋磚的材質是可以是石墨、熔融石英、剛 玉、不銹鋼中任何一種。
權利要求一種用于玻璃鍍膜的輥道氣流隔斷裝置,包括一組相互平行的輥道(3),其特征在于在輥道(3)下部設置一個波形板(1),波形板(1)表面設置一組半圓弧面,每個半圓弧面與相應的輥道(3)圓柱面呈同心圓配合,兩弧面間設有2至10毫米間隙;在每兩個相鄰輥道(3)之間上部,分別設置一個斷面呈倒置梯形的蓋磚(2),蓋磚(2)的兩側面與輥道(3)表面側面間隙配合。
2.根據權利要求1所述一種用于玻璃鍍膜的輥道氣流隔斷裝置,其特征在于輥道(3) 下部的波形板(1)與上部板(4)的覆蓋面積相對應。
3.根據權利要求1所述一種用于玻璃鍍膜的輥道氣流隔斷裝置,其特征在于蓋磚(2) 的兩側面分別與輥道(3)圓柱面呈同心圓配合,它們之間設有間隙2至10毫米。
4.根據權利要求1所述一種用于玻璃鍍膜的輥道氣流隔斷裝置,其特征在于蓋磚(2) 的兩側面分別與輥道(3)圓柱面呈相切的直線配合,它們之間設有間隙2至10毫米。
專利摘要一種用于玻璃鍍膜的輥道氣流隔斷裝置,由波形板(1)、蓋磚(2)、相互平行的輥道(3)、上部板(4)、進氣通道(5)、出氣通道(6)組成,在輥道下表面設置的波形板上表面設置半圓弧面,每個半圓弧面與輥道下表面同心圓配合,兩弧面間隙2至10毫米;在相鄰輥道之間波形板上表面設置蓋磚,蓋磚上平面比輥道上表面略低2至5毫米,蓋磚(2)斷面呈倒置梯形,其兩側邊與輥道(3)表面側面間隙配合。本實用新型可有效隔絕輥道間上下氣體的流通,使鍍膜氣體只可在輥道和蓋磚組成的封閉平面上水平流動,與基板完成反應后由排氣通道排出。本實用新型結構簡單,可控制氣流走向,形成穩定氣流,有利于提高鍍膜玻璃的膜層均勻性。
文檔編號C03C17/00GK201729768SQ20102023728
公開日2011年2月2日 申請日期2010年6月25日 優先權日2010年6月25日
發明者張家林, 王東, 王友樂, 甘治平, 石麗芬, 金良茂, 陳凱 申請人:蚌埠玻璃工業設計研究院;中國建材國際工程集團有限公司