本發明涉及鍍膜，尤其涉及一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置及方法。
背景技術：
1、磁控濺射鍍膜靶材是磁控濺射真空鍍膜設備的核心功能耗材，在設備正交電磁場形成的高密度等離子體中，被高能惰性氣體離子轟擊，表面原子/分子受動量傳遞濺射逸出，以氣相形式沉積在基片表面成核、生長，最終形成連續致密的功能性薄膜，其材質、純度、結構直接決定鍍膜的成分、微觀形貌與物理化學性能，而磁控濺射鍍膜靶材在鍍膜時，需要角度調節裝置進行輔助調節；但現有的角度調節裝置一般不容易對鍍膜靶材進行精密轉動，不容易使工件進行轉動鍍膜，導致鍍膜靶材的利用率較低，降低了設備的使用效果，而且一般不容易對鍍膜靶材進行仰俯調節，沒法改變粒子入射方位，不容易繞開結構遮擋，不容易使陰影區獲得均勻沉積，實現全表面保形鍍膜，降低了鍍膜效果，而且一般不容易對鍍膜靶材進行快速安裝，需要螺絲結構進行輔助安裝，增加了安裝負擔，降低了鍍膜靶材的安裝效果。
技術實現思路
1、本發明解決的問題在于提供一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置及方法，可以對鍍膜靶材進行精密轉動，方便使工件進行轉動鍍膜，導致鍍膜靶材的利用率較高，提高了設備的使用效果，而且可以對鍍膜靶材進行仰俯調節，從而改變粒子入射方位，方便繞開結構遮擋，從而使陰影區獲得均勻沉積，進而實現全表面保形鍍膜，提高了鍍膜效果，而且可以對鍍膜靶材進行快速安裝，無需螺絲結構進行輔助安裝，降低了安裝負擔，提高了鍍膜靶材的安裝效果。
2、為了實現上述目的，本發明采用了如下技術方案：一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，包括活動框主體，所述活動框主體的頂端安裝有安裝盒，所述安裝盒內安裝有轉動組件，所述活動框主體與安裝盒之間安裝有角度調節組件，所述安裝盒的內側安裝有限位卡合組件；
3、所述轉動組件包括與安裝盒底端鑲嵌安裝的伸縮桿，所述伸縮桿的頂端外壁上轉動安裝有轉動盤，所述安裝盒的底端內壁上連接有第一彈簧，且第一彈簧的頂端貼合安裝于轉動盤的底端外壁上，所述轉動盤的底端外壁上連接有渦輪環，所述安裝盒的一側內壁上鑲嵌安裝有第一伺服電機，所述第一伺服電機的輸出軸一端連接有蝸桿，且蝸桿的另一端轉動安裝于安裝盒的內壁上，所述蝸桿的外側嚙合安裝于渦輪環的外壁上，所述轉動盤的外側分布連接有定位桿，所述安裝盒內安裝有安裝座，所述安裝座的底端對應定位桿位置分布開設有定位槽，所述安裝座的頂端安裝有鍍膜靶材。
4、優選的，所述角度調節組件包括與活動框主體底端連接的球形鉸鏈，所述安裝盒的底端內壁上對應球形鉸鏈位置開設有球形槽，所述安裝盒的底端內壁上安裝有磁性吸附導軌，所述磁性吸附導軌內滑動安裝有弧形滑板，所述弧形滑板的底端對稱連接有轉動軸，所述轉動軸的一端轉動安裝有調節桿，所述調節桿的底端轉動安裝有絲桿，所述活動框主體的底端貫通安裝有固定環，且絲桿貫通安裝于固定環的內壁上，所述固定環上滑動安裝有第一滑環，所述第一滑環的底端外壁上連接有第二齒輪，所述第二齒輪的中部對應絲桿位置開設有螺紋孔。
5、優選的，所述第二齒輪的外側嚙合安裝有第一齒輪，所述活動框主體的底端鑲嵌安裝有第二伺服電機，且第二伺服電機的輸出軸底端連接于第一齒輪的外壁上。
6、優選的，所述限位卡合組件包括與活動框主體內側開設的環形滑槽，所述環形滑槽內滑動安裝有第二滑環，所述第二滑環的內側連接有連接環，所述連接環的內側分布連接有套筒，所述套筒內套接有限位桿，所述限位桿的一端外壁上連接有連接盤，所述連接盤的一側外壁上連接有第二彈簧，且第二彈簧的另一端連接于套筒的內壁上。
7、優選的，所述安裝座的外側對應限位桿位置分布開設有限位卡槽，所述限位卡槽的底端開設有進出口。
8、優選的，所述活動框主體的外側底端分布連接有連接板，所述連接板內套接有螺栓。
9、優選的，所述安裝盒的頂端轉動安裝有密封罩，所述密封罩的頂端內壁上安裝有磁控濺射源。
10、優選的，所述安裝盒的底端外壁上安裝有角位移傳感器。
11、優選的，所述第二彈簧套接于限位桿的外壁上，且第二彈簧的個數為四個。
12、一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節方法，首先將活動框主體上的連接板安裝到指定位置，然后通過螺栓將活動框主體上的連接板進行固定安裝，然后將安裝座上的定位槽卡合到轉動盤上的定位桿外部，并且按壓鍍膜靶材，使轉動盤上的伸縮桿進行下降，使限位桿沿著鍍膜靶材上的進出口進入到限位卡槽的內部，然后轉動鍍膜靶材使限位桿進入到限位卡槽的限位處，使連接盤上的限位桿沿著套筒進行移動，使第二彈簧處于拉伸狀態下，使限位桿固定到限位卡槽的限位處，此時松開鍍膜靶材，在第一彈簧的作用下，使轉動盤對安裝座上的鍍膜靶材進行向上擠壓，使鍍膜靶材固定到該處，然后將工件放置到鍍膜靶材的上方，此時轉動密封罩，使密封罩密封安裝到安裝盒的上方，然后啟動磁控濺射源對鍍膜靶材進行粒子發射，通過磁控濺射的粒子將鍍膜靶材上的靶材原子鍍到工件上，從而形成鍍膜，當需要轉動鍍膜靶材時，啟動第一伺服電機使蝸桿進行轉動，然后在渦輪環的作用下，再通過定位桿與定位槽配合下，使轉動盤帶動安裝座上的鍍膜靶材轉動到指定位置，然后通過限位卡槽與限位桿的作用下，再通過套筒的配合下，使連接環上的第二滑環沿著環形滑槽進行轉動，使限位結構持續對鍍膜靶材進行限位處理，然后通過角位移傳感器控制下，啟動第二伺服電機使第一齒輪進行轉動，然后帶動第二齒輪上的第一滑環沿著固定環進行轉動，然后在螺紋孔的作用下，使絲桿沿著調節桿進行轉動，進而帶動調節桿進行升降，然后在轉動軸的作用下，而且通過弧形滑板吸附到磁性吸附導軌的內部，使安裝盒上的球形槽沿著球形鉸鏈進行角度調節，使鍍膜靶材向指定方向進行仰俯調節。
13、本發明的有益效果是：采用了轉動組件，可以對鍍膜靶材進行精密轉動，方便使工件進行轉動鍍膜，導致鍍膜靶材的利用率較高，提高了設備的使用效果；
14、采用了角度調節組件，可以對鍍膜靶材進行仰俯調節，從而改變粒子入射方位，方便繞開結構遮擋，從而使陰影區獲得均勻沉積，進而實現全表面保形鍍膜，提高了鍍膜效果；
15、采用了限位卡合組件，可以對鍍膜靶材進行快速安裝，無需螺絲結構進行輔助安裝，降低了安裝負擔，提高了鍍膜靶材的安裝效果。
1.一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，包括活動框主體（1），所述活動框主體（1）的頂端安裝有安裝盒（2），其特征在于，所述安裝盒（2）內安裝有轉動組件（3），所述活動框主體（1）與安裝盒（2）之間安裝有角度調節組件（4），所述安裝盒（2）的內側安裝有限位卡合組件（5）；
2.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，其特征在于，所述角度調節組件（4）包括與活動框主體（1）底端連接的球形鉸鏈（4011），所述安裝盒（2）的底端內壁上對應球形鉸鏈（4011）位置開設有球形槽（4013），所述安裝盒（2）的底端內壁上安裝有磁性吸附導軌（4012），所述磁性吸附導軌（4012）內滑動安裝有弧形滑板（4010），所述弧形滑板（4010）的底端對稱連接有轉動軸（409），所述轉動軸（409）的一端轉動安裝有調節桿（408），所述調節桿（408）的底端轉動安裝有絲桿（407），所述活動框主體（1）的底端貫通安裝有固定環（403），且絲桿（407）貫通安裝于固定環（403）的內壁上，所述固定環（403）上滑動安裝有第一滑環（404），所述第一滑環（404）的底端外壁上連接有第二齒輪（405），所述第二齒輪（405）的中部對應絲桿（407）位置開設有螺紋孔（406）。
3.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，其特征在于，所述第二齒輪（405）的外側嚙合安裝有第一齒輪（402），所述活動框主體（1）的底端鑲嵌安裝有第二伺服電機（401），且第二伺服電機（401）的輸出軸底端連接于第一齒輪（402）的外壁上。
4.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，其特征在于，所述限位卡合組件（5）包括與活動框主體（1）內側開設的環形滑槽（501），所述環形滑槽（501）內滑動安裝有第二滑環（502），所述第二滑環（502）的內側連接有連接環（503），所述連接環（503）的內側分布連接有套筒（504），所述套筒（504）內套接有限位桿（506），所述限位桿（506）的一端外壁上連接有連接盤（505），所述連接盤（505）的一側外壁上連接有第二彈簧（507），且第二彈簧（507）的另一端連接于套筒（504）的內壁上。
5.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，其特征在于，所述安裝座（308）的外側對應限位桿（506）位置分布開設有限位卡槽（508），所述限位卡槽（508）的底端開設有進出口（509）。
6.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，其特征在于，所述活動框主體（1）的外側底端分布連接有連接板（6），所述連接板（6）內套接有螺栓（7）。
7.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，其特征在于，所述安裝盒（2）的頂端轉動安裝有密封罩（8），所述密封罩（8）的頂端內壁上安裝有磁控濺射源（9）。
8.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，其特征在于，所述安裝盒（2）的底端外壁上安裝有角位移傳感器（10）。
9.根據權利要求4所述的一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置，其特征在于，所述第二彈簧（507）套接于限位桿（506）的外壁上，且第二彈簧（507）的個數為四個。
10.一種如權利要求2-9任一項所述的一種磁控濺射鍍膜靶材角度調節裝置所使用的方法，其特征在于，