本發明涉及紫外光清洗技術領域，特別是涉及一種大面積光子發生噴頭。
背景技術：
紫外光清洗是指利用紫外光中的185nm和254nm波長的光波對有機物的“光敏作用”分解有機物，達到清洗效果。在現有清洗裝置中通入一定濃度的臭氧水或雙氧水等藥劑，藥劑可在紫外光下分解成氧原子和氧氣；氧原子容易和水發生化學反應形成oh自由基。oh自由基(-oh)可以被看作是羥基(oh-)失去了一個電子的中性形式，具有極強的氧化性。臭氧水本身具有較強的氧化性，再結合oh自由基，大大增強了其對有機物的氧化清洗能力。
現有技術中用紫外光照射雙氧水等藥劑清洗主要有兩種方法：一是將藥劑噴淋在被清洗物的表面，被清洗物的上方有一紫外燈，對被清洗物進行紫外輻照；二是將藥劑噴淋在紫外燈罩上，經過紫外輻照后滴灑到被清洗物的表面。由于藥劑是持續噴淋，所以藥劑是流動的，采用上述兩種清洗方式時，單位體積的藥劑被紫外輻照的面積較小，輻照時間也短，輻照的強度較低，進而降低紫外光清洗的效率和效能。
技術實現要素：
本發明的目的是提供一種能夠增大紫外輻照面積、提高紫外輻照的強度、同時提高清洗效果的大面積光子發生噴頭，該噴頭有利于高濃度oh自由基的產生，從而解決上述現有技術存在的問題。
為實現上述目的，本發明提供了如下方案：
本發明提供一種大面積光子發生噴頭，包括安裝底座、固定于所述安裝底座一端的石英腔體、設置于所述石英腔體內的紫外線發射組件以及安裝于所述石英腔體頂部的藥劑噴淋頭，所述紫外線發射組件外部套設有起保護作用的密封腔體，且所述密封腔體一側傾斜設置形成噴淋面，所述石英腔體的底部開設有與所述噴淋面底部銜接的出液孔，藥劑被噴淋在所述噴淋面上，經紫外線均勻照射后生成高濃度oh自由基并從所述出液孔排出。
可選的，所述紫外線發射組件設置有兩組，且每組所述紫外線發射組件的外部均套設有密封腔體，兩所述密封腔體上的所述噴淋面相對設置，形成倒三角空隙；所述出液孔位于所述倒三角空隙的底部中心。
可選的，所述紫外線發射組件為紫外燈管，所述紫外燈管安裝于所述安裝底座。
可選的，所述紫外燈管的外周設置有反光板。
可選的，所述紫外燈管的一側設置有氮氣冷卻噴嘴，所述安裝底座上設置有與所述氮氣冷卻噴嘴相連的氮氣進口和/或氮氣出口。
可選的，所述藥劑噴淋頭包括四氟頂座和設置于所述四氟頂座底部的扇形噴嘴，所述四氟頂座內設置有進液管，所述扇形噴嘴與所述進液管連通。
可選的，所述四氟頂座的底部均勻設置有四個所述扇形噴嘴。
可選的，所述安裝底座通過連接塊與一工藝臂連接。
可選的，所述石英腔體為矩形腔體、圓形腔體或三角形腔體中的一種。
本發明相對于現有技術取得了以下技術效果：
本發明提供的大面積光子發生噴頭，結構簡單合理，通過設置密封腔體，可有效避免藥劑直接與紫外線發射組件等其他部件接觸，而造成的部件腐蝕；通過在密封腔體上設置傾斜噴淋面，可使藥劑在噴淋面均勻鋪灑，增加紫外線輻照面積，進而提高紫外輻照的強度并提高清洗效果，該噴頭有利于高濃度oh自由基的產生，實用性強。本發明可廣泛應用于光掩模清洗、半導體的硅晶圓和砷化鎵清洗、平板顯示清洗等的領域。
附圖說明
為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發明大面積光子發生噴頭的整體結構示意圖；
圖2為本發明大面積光子發生噴頭的剖面示意圖；
圖3為本發明大面積光子發生噴頭中密封腔體的安裝示意圖；
圖4為本發明大面積光子發生噴頭中反光板的安裝示意圖；
圖5為本發明大面積光子發生噴頭中紫外燈管的安裝示意圖；
其中，附圖標記為：1、安裝底座；2、石英腔體；3、紫外燈管；4、藥劑噴淋頭；5、密封腔體；6、噴淋面；7、出液孔；8、倒三角空隙；9、反光板；10、氮氣冷卻噴嘴；11、四氟頂座；12、扇形噴嘴；13、進液管；14、連接塊；15、工藝臂。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。
本發明的目的是提供一種能夠增大紫外輻照面積、提高紫外輻照的強度、同時提高清洗效果的大面積光子發生噴頭，該噴頭有利于高濃度oh自由基的產生，從而解決上述現有技術存在的問題。
為使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明。
實施例一：
如圖1-5所示，本實施例提供一種大面積光子發生噴頭，包括安裝底座1、固定于安裝底座1一端的石英腔體2、設置于石英腔體2內的紫外線發射組件以及安裝于石英腔體2頂部的藥劑噴淋頭4，紫外線發射組件外部套設有起保護作用的密封腔體5，且密封腔體5一側傾斜設置形成噴淋面6，石英腔體2的底部開設有與噴淋面6底部銜接的出液孔7，藥劑被噴淋在噴淋面6上，經紫外線均勻照射后可生成高濃度oh自由基并從出液孔7排出，起到殺菌清洗效果。
于本具體實施例中，紫外線發射組件為紫外燈管3，紫外燈管3安裝于安裝底座1，并與安裝底座1內的電源電性連接，并設有對應控制開關按鈕，以實現紫外燈管的正常啟閉功能。其中，紫外燈管3優選為紫外光譜在10nm～380nm范圍內的燈源，其他光譜的燈源也可以，根據實際情況而定。
本實施例中，如圖1-5所示，紫外燈管3設置有兩組，且每組紫外燈管3的外部均套設有一密封腔體5，兩密封腔體5上的噴淋面6相對設置，形成倒三角空隙8；出液孔7位于倒三角空隙8的底部中心。其中，出液孔7可為間隔分布的若干圓孔結構，也可以為長條孔結構，用于將液體下排或下滴。
本實施例中，如圖3-4所示，紫外燈管3的外周，除靠近噴淋面6的一側，設置有反光板9，用于增加紫外燈輻照的強度。
本實施例中，如圖4-5所示，紫外燈管3的一側設置有氮氣冷卻噴嘴10，氮氣冷卻噴嘴10優選位于反光板9的外側；氮氣冷卻噴嘴10安裝于安裝底座1上，安裝底座1設置有與氮氣冷卻噴嘴10相連的氮氣進口和氮氣出口，氮氣進口用于與外部氮源連接，以確保氮氣冷卻噴嘴行使其冷卻功能。
本實施例中，密封腔體5可為矩形腔體結構，其將紫外燈管3、反光板9和氮氣冷卻噴嘴10同時保護起來，臭氧水等藥劑從兩個矩形腔體之間的縫隙噴淋，藥劑不與燈管等其他部件接觸，可有效防止藥劑對各部件腐蝕。同時，為了不影響紫外線的照射，密封腔體5可優選采用石英材質制成。
本實施例中，如圖1-2所示，藥劑噴淋頭4包括四氟頂座11和設置于四氟頂座11底部的扇形噴嘴12，四氟頂座11內設置有進液管13，進液管13用于連接藥劑源頭并將藥劑導入，扇形噴嘴12與進液管13連通。
本實施例中，如圖4所示，四氟頂座11的底部均勻設置有四個扇形噴嘴12，兩端各對稱設置一組，能夠將臭氧水等藥劑均勻大面積鋪灑在倒三角空隙8的兩噴淋面6上。
本實施例中，藥劑可為臭氧水或雙氧水等任意一種能夠吸收光能量的藥劑。通過該藥劑生成oh自由基的原理為現有技術，在此不再贅述。
本實施例中，如圖1所示，安裝底座1的另一端通過連接塊14與一工藝臂15連接；工藝臂15用于將噴頭安裝于其他部件。其中，連接塊14優選為四氟制作而成。
本實施例中，石英腔體2優選為矩形腔體、圓形腔體或三角形腔體中的一種。
由此可見，本發明提供的大面積光子發生噴頭，結構簡單合理，通過設置密封腔體，可有效避免藥劑直接與紫外線發射組件等其他部件接觸，而造成的部件腐蝕；通過在密封腔體上設置傾斜噴淋面，可使藥劑在噴淋面均勻鋪灑，增加紫外線輻照面積，進而提高紫外輻照的強度并提高清洗效果，該噴頭有利于高濃度oh自由基的產生，實用性強。本發明應用領域比較廣泛，在光掩模清洗、半導體的硅晶圓和砷化鎵清洗、平板顯示清洗等的領域都可以應用。
需要說明的是，對于本領域技術人員而言，顯然本發明不限于上述示范性實施例的細節，而且在不背離本發明的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實現本發明。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本發明的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本發明內，不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。
本發明中應用了具體個例對本發明的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發明的方法及其核心思想；同時，對于本領域的一般技術人員，依據本發明的思想，在具體實施方式及應用范圍上均會有改變之處。綜上所述，本說明書內容不應理解為對本發明的限制。