1.一種用于通過(guò)模制來(lái)制造至少一個(gè)光學(xué)器件（2）的方法，所述模制是根據(jù)應(yīng)用于模制周期（k）的一個(gè)或更多個(gè)模制控制參數(shù)（ci，k）將材料注入到模具（1）中來(lái)進(jìn)行的，所述參數(shù)包括所述材料的至少一個(gè)注射溫度（ti），和/或所述模具的溫度（tm）和/或所述材料的注射壓力（pi），
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述至少一個(gè)光學(xué)器件（2）的所述至少一個(gè)測(cè)量的參數(shù)（mi，k）包括在所述至少一個(gè)光學(xué)器件（2）的至少兩個(gè)光學(xué)界面（21、22）之間測(cè)量的光學(xué)厚度（eom），且所述誤差值（ek）是根據(jù)所述測(cè)量的光學(xué)厚度和預(yù)定的光學(xué)厚度（eoc）計(jì)算的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)光學(xué)器件（2）為光學(xué)透鏡，并且所述光學(xué)厚度（eom）的所述測(cè)量在所述透鏡的中心處進(jìn)行。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)測(cè)量的參數(shù)（mi，k）包含所述透鏡的光學(xué)有效區(qū)域中的至少一個(gè)物理或光學(xué)厚度測(cè)量點(diǎn)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)測(cè)量的參數(shù)（mi，k）包含所謂的組裝區(qū)域中的至少一個(gè)物理或光學(xué)厚度。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)測(cè)量的參數(shù)（mi，k）包括允許所述透鏡脫模所用的最小周期時(shí)間。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，在所述模具溫度（tm）、所述注射溫度（ti）與周期時(shí)間（tc）之間建立關(guān)系，以對(duì)控制參數(shù)之間的關(guān)系的部分進(jìn)行建模，用于評(píng)估靈敏度（s）。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，所述修改的模制控制參數(shù)（ci，k+d）是根據(jù)所述模制周期（k）和所述后續(xù)模制周期（k+d）之間的一個(gè)或更多個(gè)控制參數(shù)值的偏差向量之間的靈敏度關(guān)系得到的，所述偏差向量滿足以下公式：
9.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，所述靈敏度關(guān)系被線性化，所述向量與靈敏度矩陣（s）相乘，以根據(jù)式確定在時(shí)間（k）的生產(chǎn)參數(shù)（mk）與預(yù)定的理論參數(shù)（mt）之間的誤差偏差向量。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述靈敏度矩陣是通過(guò)經(jīng)驗(yàn)獲得的。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述靈敏度關(guān)系是通過(guò)根據(jù)基于一組元素的數(shù)值模型計(jì)算所述光學(xué)器件表面處的固化狀態(tài)及其材料供應(yīng)情況獲得的，所述一組元素包括在注射壓力、注射溫度和模具溫度條件的影響下，所述光學(xué)器件在其固化期間的冷卻和粘塑性行為的模型。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，通過(guò)人工智能模塊獲得所述靈敏度矩陣，所述人工智能模塊通過(guò)觀察其他透鏡的模制和待遵守的周期時(shí)間條件學(xué)習(xí)了應(yīng)用模制特性對(duì)模制透鏡的形成的影響后果。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，所述矩陣（s）被求逆為矩陣（m），以通過(guò)應(yīng)用下式獲得多個(gè)修改的模制控制參數(shù)：
14.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，在所述模制周期（k）結(jié)束時(shí)僅測(cè)量所述至少一個(gè)模制光學(xué)器件的一個(gè)參數(shù)（mi，k）。
15.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，針對(duì)所述模制周期（k）的d個(gè)周期的后續(xù)模制周期（k+d）確定單個(gè)修改的模制控制參數(shù)（ci，k+d）。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，針對(duì)至少一個(gè)光學(xué)器件所考慮的模制周期（k）之后的后續(xù)模制周期（k+d）的所述修改的模制參數(shù)（ci，k+d）包括模具溫度（tm，k+d）、注射溫度（ti，k+d）或注射壓力（pi，k+d），所述修改的模制參數(shù)（ci，k+d）來(lái)自以下公式：
17.一種用于實(shí)施根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法的裝置，所述裝置包括：