本發(fā)明涉及一種處理基板的基板處理裝置及基板處理方法。基板例如包含半導體晶圓、液晶顯示設備或有機el（electro?luminescence，電致發(fā)光）顯示設備等的fpd（flatpanel?display，平板顯示器）用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太陽能電池用基板等。
背景技術：
1、專利文獻1揭示了：向以水平的姿勢旋轉的基板的上表面自位于處理位置的上表面處理液噴嘴噴出處理液；及將位于待機位置的上表面處理液噴嘴以清洗液清洗并干燥。
2、現(xiàn)有技術文獻
3、專利文獻
4、專利文獻1：日本特開2013-26379號公報
技術實現(xiàn)思路
1、發(fā)明所欲解決的課題
2、在專利文獻1記載的基板處理裝置及基板處理方法中，自上表面處理液噴嘴噴出的處理液的噴霧及液滴有時附著于上表面處理液噴嘴，而自上表面處理液噴嘴落下至基板。在上表面處理液噴嘴的干燥不充分的情形下，在使上表面處理液噴嘴向處理位置移動時，清洗液等液體有時自上表面處理液噴嘴落下至基板。然而，自上表面處理液噴嘴落下至基板的液體有時使基板的品質下降。
3、本發(fā)明的至少1個實施方式提供一種可減少自處理液噴嘴向基板在意外的時機落下的液體的基板處理裝置及基板處理方法。
4、解決課題的技術手段
5、本發(fā)明的一實施方式提供一種基板處理裝置，其包含：基板固持器，其水平地保持基板；及處理液噴嘴，其向保持于所述基板固持器的所述基板的上表面將處理液朝下方噴出；且所述處理液噴嘴的外表面包含拒水面。
6、在所述實施方式中，可將以下的特征的至少1個加于所述基板處理裝置。
7、所述拒水面包含凹凸面，該凹凸面包含至少一部分被空氣充滿的凹部、及接觸于與所述凹部內(nèi)的所述空氣接觸的水的凸部。
8、所述凹凸面是氟樹脂制。
9、所述處理液噴嘴的所述外表面包含所述拒水面及鏡面。
10、所述處理液噴嘴包含：臂部，其水平地延伸；及噴嘴部，其自所述臂部向下方延伸，將所述處理液朝下方噴出；且所述鏡面設置于所述噴嘴部。
11、所述拒水面設置于所述臂部。
12、水相對于所述鏡面的接觸角超過90度。
13、所述基板處理裝置還包含：旋轉馬達，其使保持于所述基板固持器的所述基板繞通過所述基板的中央部的鉛垂的旋轉軸線旋轉；水平致動器，其產(chǎn)生使所述處理液噴嘴在所述處理液噴嘴與保持于所述基板固持器的所述基板在俯視下重疊的處理位置、和所述處理液噴嘴與保持于所述基板固持器的所述基板在俯視下不重疊的待機位置之間水平地移動的動力；及控制裝置，其在位于所述處理位置的所述處理液噴嘴朝保持于所述基板固持器的所述基板的所述上表面供給所述處理液之后，一面通過利用所述旋轉馬達使所述基板旋轉而使所述基板干燥，一面通過所述水平致動器使所述處理液噴嘴自所述處理位置移動至所述待機位置。
14、所述基板處理裝置還包含：水平致動器，其產(chǎn)生使所述處理液噴嘴在所述處理液噴嘴與保持于所述基板固持器的所述基板在俯視下重疊的處理位置、和所述處理液噴嘴與保持于所述基板固持器的所述基板在俯視下不重疊的待機位置之間水平地移動的動力；清洗噴嘴，其向位于所述待機位置的所述處理液噴嘴的所述外表面噴出清洗液；及干燥噴嘴，其向位于所述待機位置的所述處理液噴嘴的所述外表面噴出干燥氣體。
15、本發(fā)明的又一實施方式提供一種基板處理方法，其包含以下步驟：向通過基板固持器水平地保持的基板的上表面自處理液噴嘴將處理液朝下方噴出；及使在所述處理液噴嘴噴出所述處理液時產(chǎn)生的噴霧及液滴，與設置于所述處理液噴嘴的外表面的拒水面接觸。可將與基板處理裝置相關的所述的特征的至少1個加于所述基板處理方法。
16、本發(fā)明的所述的或另外其他的目的、特征及效果，通過參照附圖而如下所述的實施方式的說明而明確。
1.一種基板處理裝置，其中，包含：
2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其中，所述拒水面包含凹凸面，該凹凸面包含至少一部分被空氣充滿的凹部、及接觸于與所述凹部內(nèi)的所述空氣接觸的水的凸部。
3.如權利要求2所述的基板處理裝置，其中，所述凹凸面是氟樹脂制。
4.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其中，所述處理液噴嘴的所述外表面包含所述拒水面及鏡面。
5.如權利要求4所述的基板處理裝置，其中，所述處理液噴嘴包含：臂部，其水平地延伸；及噴嘴部，其自所述臂部向下方延伸，將所述處理液朝下方噴出；
6.如權利要求5所述的基板處理裝置，其中，所述拒水面設置于所述臂部。
7.如權利要求4所述的基板處理裝置，其中，水相對于所述鏡面的接觸角超過90度。
8.如權利要求1至3中任一項的基板處理裝置，其中，還包含：
9.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其中，還包含：
10.一種基板處理方法，其中，包含以下步驟：