本發(fā)明涉及鍍膜玻璃，具體為一種散熱低輻射玻璃及其制備方法。
背景技術(shù)：
1、鍍膜玻璃是通過(guò)在高質(zhì)量浮法玻璃的表面涂覆金屬或金屬氧化物薄膜的低輻射涂層作為功能層，使其對(duì)遠(yuǎn)紅外線(xiàn)具有反射的性能，既可以有效地阻擋高溫場(chǎng)向低溫場(chǎng)的熱流輻射，又能有效地阻止夏季熱能進(jìn)入室內(nèi)和冬季熱能的外泄，具有雙向節(jié)能的效果；在目前全世界能源緊缺、節(jié)能和綠色環(huán)保呼聲日高的形勢(shì)下，是建筑節(jié)能中不可缺少的主要建筑材料之一。鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的反射率、導(dǎo)電率等性能。
2、現(xiàn)有的鍍膜玻璃往往存在抗沖擊性不夠或鍍層穩(wěn)定性差的缺點(diǎn)，因此本發(fā)明研究制備了一種高抗沖擊性且鍍層穩(wěn)定性好的散熱低輻射玻璃。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的在于提供一種散熱低輻射玻璃及其制備方法，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。
2、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種散熱低輻射玻璃，所述散熱低輻射玻璃是將玻璃基體用浸漬液進(jìn)行浸漬處理后，再進(jìn)行鍍膜制得。
3、優(yōu)選的，所述玻璃基體的組分的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為：71～73％的二氧化硅，13.4～14.5％的氧化鈉，7.7～11.8％的氧化鈣，2.5～4.5％的氧化鎂，0.1～2.0％的氧化鋁，0.02～0.15％的氧化鐵，其余為二氧化硫。
4、優(yōu)選的，所述浸漬液為改性氰基硅烷；所述改性氰基硅烷是氰乙基三氯硅烷與乙酸酐反應(yīng)后，再加入超支化苯乙烯制得。
5、優(yōu)選的，所述鍍膜時(shí)，在浸漬處理后的玻璃基體表面形成低輻射層；所述低輻射層包括銻二氧化錫層、銻二氧化錫與氮化鈦共混層和氮化鈦層。
6、優(yōu)選的，所述一種散熱低輻射玻璃的制備方法，包括以下具體步驟：
7、(1)將氰乙基三氯硅烷與乙酸酐按質(zhì)量比1:10～1:20混合置于反應(yīng)釜中，升溫至70～80℃，在50～100rpm下攪拌反應(yīng)5～7h，加入氰乙基三氯硅烷質(zhì)量0.4～0.8倍的超支化聚乙烯，繼續(xù)反應(yīng)3～5h，再進(jìn)行減壓蒸餾，制得改性氰基硅烷；
8、(2)將預(yù)處理的玻璃基體浸漬在改性氰基硅烷中，以3～5℃/min的速率升溫至150～180℃，保溫浸漬24～48h，冷卻至室溫后用去離子水洗滌3～5次并擦干，制得浸漬處理的玻璃基體；
9、(3)將浸漬處理的玻璃基體置于鍍膜器中，將鍍膜器懸掛進(jìn)入錫槽，將二甲基二氯化錫和三氯化銻加熱氣化后送至蒸發(fā)器內(nèi)，與氧氣和水蒸氣混合形成第一混合氣，蒸發(fā)器溫度為80～100℃；將第一混合氣送至鍍膜器內(nèi)，進(jìn)行鍍膜；繼續(xù)向蒸發(fā)器通第一混合氣質(zhì)量1.1～1.4倍的四氯化鈦和氨氣的混合氣，調(diào)節(jié)蒸發(fā)器溫度為600～620℃，并送至鍍膜器內(nèi)形成第二混合氣，進(jìn)行鍍膜；再次向蒸發(fā)器通第一混合氣質(zhì)量2～4倍的四氯化鈦和氨氣的混合氣，并送至鍍膜器內(nèi)形成第三混合氣進(jìn)行鍍膜，制得散熱低輻射玻璃。
10、優(yōu)選的，上述步驟(1)中：超支化聚乙烯的制備方法為：在無(wú)氧條件下，將乙烯基芐基氯與氯苯按質(zhì)量比1:4～1:5混合并除去溶解的氧，再加入乙烯基芐基氯質(zhì)量0.3～0.4倍的氯化亞銅和乙烯基芐基氯質(zhì)量0.8～0.9倍的2’2-聯(lián)吡啶，攪拌溶解后，再加入乙烯基芐基氯質(zhì)量0.12～0.14倍的氯化銅，升溫至110～120℃，在100～300rpm下攪拌反應(yīng)，反應(yīng)4～6h后，停止加熱，用液氮降溫同時(shí)通入空氣，再用四氫呋喃稀釋后過(guò)中性氧化鋁柱，最后用甲醇沉淀，并在40℃真空干燥箱中干燥，制得超支化聚乙烯。
11、優(yōu)選的，上述步驟(2)中：預(yù)處理玻璃基體的過(guò)程為：將玻璃基體用去離子水沖洗3～5min后，浸沒(méi)在濃度為40～50％的硝酸溶液中，24h后撈出并用去離子水和無(wú)水乙醇在40～60khz下依次超聲清洗10～20min，最后置于100～120℃的烤膠機(jī)中干燥。
12、優(yōu)選的，上述步驟(3)中：二甲基二氯化錫、三氯化銻、氧氣和水蒸氣的體積比為3:0.4:20:8～5:0.6:30:10。
13、優(yōu)選的，上述步驟(3)中：四氯化鈦和氨氣的體積比為2:1～3:1。
14、優(yōu)選的，上述步驟(3)中：第一混合氣的氣體流量為600～650l/min，反應(yīng)溫度為650～660℃，反應(yīng)時(shí)間為1.5～3.9s；第二混合氣的氣體流量為600～650l/min，反應(yīng)溫度為600～620℃，反應(yīng)時(shí)間為1～2.2s；第三混合氣的氣體流量為600～650l/min，反應(yīng)溫度為600～620℃，反應(yīng)時(shí)間為0.8～1.5s。
15、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所達(dá)到的有益效果是：
16、本發(fā)明制備的散熱低輻射玻璃，是將玻璃基體進(jìn)行浸漬處理后，再進(jìn)行鍍膜制得；
17、浸漬處理玻璃基體時(shí)，將玻璃基體置于浸漬液中；浸漬液為改性氰基硅烷；改性氰基硅烷是氰乙基三氯硅烷與乙酸酐反應(yīng)后，再加入超支化苯乙烯制得；改性氰基硅烷首先水解形成活潑的硅醇，能夠與玻璃基體上的羥基反應(yīng)，粘附在粗糙的玻璃基體表面，超支化聚乙烯具有近似球形的多支鏈形態(tài)，在玻璃基體的凹面形成交聯(lián)的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，使得鍍膜后形成密閉的孔隙結(jié)構(gòu)，增強(qiáng)玻璃的抗沖擊性；
18、鍍膜時(shí)，在處理后的玻璃基體的表面形成低輻射層；低輻射層包括銻二氧化錫層、銻二氧化錫與氮化鈦共混層和氮化鈦層；鍍膜器鍍膜時(shí)，先將錫源、銻源送至蒸發(fā)器加熱氣化，形成混合氣后在玻璃基體的表面形成銻二氧化錫層，繼續(xù)通入四氯化鈦和氨氣，形成錫、銻、四氯化鈦和氨氣的混合氣，在玻璃基體的表面形成銻二氧化錫與氮化鈦共混層，錫源、銻源耗盡后繼續(xù)通四氯化鈦和氨氣，在玻璃基體的表面形成氮化鈦層；氮化鈦層具有低輻射性能，采用這樣的制備工藝將氮化鈦層“鑲嵌”在玻璃基體表面，既保證了低反射率，又保證了可見(jiàn)光的透射率；銻二氧化錫層的穩(wěn)定性好、粗糙度低，與氮化鈦共混糾纏在中間，增強(qiáng)了低輻射層的穩(wěn)定性，防止氮化鈦層脫落，影響玻璃的輻射性。
1.一種散熱低輻射玻璃，其特征在于，所述散熱低輻射玻璃是將玻璃基體用浸漬液進(jìn)行浸漬處理后，再進(jìn)行鍍膜制得。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種散熱低輻射玻璃，其特征在于，所述玻璃基體的組分的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為：71～73％的二氧化硅，13.4～14.5％的氧化鈉，7.7～11.8％的氧化鈣，2.5～4.5％的氧化鎂，0.1～2.0％的氧化鋁，0.02～0.15％的氧化鐵，其余為二氧化硫。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種散熱低輻射玻璃，其特征在于，所述浸漬液為改性氰基硅烷；所述改性氰基硅烷是氰乙基三氯硅烷與乙酸酐反應(yīng)后，再加入超支化苯乙烯制得。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種散熱低輻射玻璃，其特征在于，所述鍍膜時(shí)，在浸漬處理后的玻璃基體表面形成低輻射層；所述低輻射層包括銻二氧化錫層、銻二氧化錫與氮化鈦共混層和氮化鈦層。
5.一種散熱低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，所述散熱低輻射玻璃的制備方法，包括以下具體步驟：
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種散熱低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，上述步驟(1)中：超支化聚乙烯的制備方法為：在無(wú)氧條件下，將乙烯基芐基氯與氯苯按質(zhì)量比1:4～1:5混合并除去溶解的氧，再加入乙烯基芐基氯質(zhì)量0.3～0.4倍的氯化亞銅和乙烯基芐基氯質(zhì)量0.8～0.9倍的2’2-聯(lián)吡啶，攪拌溶解后，再加入乙烯基芐基氯質(zhì)量0.12～0.14倍的氯化銅，升溫至110～120℃，在100～300rpm下攪拌反應(yīng)，反應(yīng)4～6h后，停止加熱，用液氮降溫同時(shí)通入空氣，再用四氫呋喃稀釋后過(guò)中性氧化鋁柱，最后用甲醇沉淀，并在40℃真空干燥箱中干燥，制得超支化聚乙烯。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種散熱低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，上述步驟(2)中：預(yù)處理玻璃基體的過(guò)程為：將玻璃基體用去離子水沖洗3～5min后，浸沒(méi)在濃度為40～50％的硝酸溶液中，24h后撈出并用去離子水和無(wú)水乙醇在40～60khz下依次超聲清洗10～20min，最后置于100～120℃的烤膠機(jī)中干燥。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種散熱低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，上述步驟(3)中：二甲基二氯化錫、三氯化銻、氧氣和水蒸氣的體積比為3:0.4:20:8～5:0.6:30:10。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種散熱低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，上述步驟(3)中：四氯化鈦和氨氣的體積比為2:1～3:1。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種散熱低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，上述步驟(3)中：第一混合氣的氣體流量為600～650l/min，反應(yīng)溫度為650～660℃，反應(yīng)時(shí)間為1.5～3.9s；第二混合氣的氣體流量為600～650l/min，反應(yīng)溫度為600～620℃，反應(yīng)時(shí)間為1～2.2s；第三混合氣的氣體流量為600～650l/min，反應(yīng)溫度為600～620℃，反應(yīng)時(shí)間為0.8～1.5s。